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《3D打印-尼龍粉 制造工藝配方精選》
尼龍粉是一種常用于3D打印的熱塑性材料，具有高強(qiáng)度、耐磨性、耐化學(xué)腐蝕性以及良好的機(jī)械性能。它廣泛應(yīng)用于選擇性激光燒結(jié)（SLS）、多噴射熔融（MJF）等3D打印工藝。
3D打印尼龍粉的常見(jiàn)類型
尼龍11（PA11）：具有良好的抗紫外線和抗沖擊性能，適合戶外使用。
尼龍12（PA12）：強(qiáng)度和剛度更高，是SLS打印中最常用的材料之一。
復(fù)合尼龍材料：如玻璃纖維增強(qiáng)尼龍（如Nylon 12 GF Powder）和碳纖維增強(qiáng)尼龍（如Nylon 11 CF Powder），這些材料在強(qiáng)度和剛性上表現(xiàn)更優(yōu)。
3D打印尼龍粉的應(yīng)用領(lǐng)域
工業(yè)制造：用于制造機(jī)械零件、齒輪、軸承等，具有良好的耐磨性和機(jī)械強(qiáng)度。
汽車與航空航天：用于制造功能測(cè)試部件、發(fā)動(dòng)機(jī)進(jìn)氣歧管、輕量化結(jié)構(gòu)件等。
醫(yī)療領(lǐng)域：可用于制造生物相容性好的醫(yī)療器械。
消費(fèi)品：如運(yùn)動(dòng)器材、鞋底模具等。
3D打印尼龍粉的優(yōu)勢(shì)
高精度與復(fù)雜結(jié)構(gòu)：SLS和MJF工藝可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜幾何形狀的打印，無(wú)需支撐結(jié)構(gòu)。
材料可重復(fù)使用：未燒結(jié)的尼龍粉末可以回收再利用，減少浪費(fèi)。
良好的表面處理：尼龍粉末打印的部件表面可以進(jìn)行噴砂、噴漆等后處理。
3D打印尼龍粉的局限性
吸濕性：尼龍材料容易吸收空氣中的水分，可能導(dǎo)致打印件變形或性能下降。
表面粗糙度：MJF打印的部件表面相對(duì)粗糙，需要額外的后處理。
材料選擇有限：與FDM等其他3D打印技術(shù)相比，SLS和MJF的材料種類相對(duì)較少。
總結(jié)
3D打印尼龍粉因其優(yōu)異的機(jī)械性能和廣泛的適用性，在工業(yè)制造、汽車、航空航天等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。然而，其吸濕性和表面粗糙度等局限性也需要在實(shí)際應(yīng)用中加以注意。
金剛石研磨拋光液行業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新、應(yīng)用拓展和市場(chǎng)增長(zhǎng)方面均展現(xiàn)出良好前景。國(guó)際知名企業(yè)憑借其技術(shù)優(yōu)勢(shì)和市場(chǎng)地位，將繼續(xù)引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展。
本篇資料收錄了金剛石研磨拋光液最新專利技術(shù)，涉及：技術(shù)背景、解決技術(shù)問(wèn)題、生產(chǎn)配方，實(shí)施例及測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)等，是從事金剛石研磨拋光液研究生產(chǎn)的重要參考資料。
【資料內(nèi)容】生產(chǎn)工藝、配方
【資料頁(yè)數(shù)】660頁(yè) (大16開(kāi) A4紙)
【項(xiàng)目數(shù)量】65項(xiàng)
【出品單位】國(guó)際新技術(shù)資料網(wǎng)
【電子版】1680元（PDF文檔）（郵箱傳送）
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目錄
| 1 | 一種鋁鈦復(fù)合材料用拋光液及其制備方法 | 將金剛石微粉、硅溶膠、潤(rùn)滑劑、表面活性劑、分散劑、改性硅院偶聯(lián)劑等原料進(jìn)行復(fù)配得到鋁鐵復(fù)合材料用拋光液，其中改性硅;院偶聯(lián)劑可以提高金剛石微粉等拋光液磨料與有機(jī)添加劑的相容性 |
| 2 | 一種Max相TiAlC材料的拋光方法及所制備的Max相TiAlC拋光材料 | 提供的Max相TiAIC材料的拋光方法，利用拋光墊代替固結(jié)磨粒的研磨盤加工，大大簡(jiǎn)化了工藝。 |
| 3 | 一種金剛石用拋光液及金剛石化學(xué)機(jī)械拋光方法 | 這種催化作用加劇了金剛石向石墨的轉(zhuǎn)變，使金剛石表面變得十分柔軟，從而使金剛石表面碳原子更容易脫離。鐵粉催化的作用加快了金剛石材料的拋光去除過(guò)程，使得金剛石拋光能在短時(shí)間內(nèi)達(dá)到理想的表面5 質(zhì)量和精度。 |
| 4 | 一種用于高硬度材料的水溶性金剛石研磨膏及其制備方法 | 對(duì)高硬度碳化嗎材質(zhì)進(jìn)行打磨，其研磨結(jié)果表面，碳化嗎材質(zhì)的表面粗糙度Ra為0.055川，相對(duì)未打磨前的粗糙度明顯降低，材料表面干凈、劃痕少，且易清洗。 |
| 5 | 一種油性金剛石研磨膏及其制備方法 | 可以應(yīng)用于該用于高硬度材料的油性金剛石研磨膏。同樣地，用于高硬度材料的油性金剛石研磨膏的有益效果可以應(yīng)用于用于高硬度材料的油性金剛石研磨膏的制備方法。 |
| 6 | 用于不銹鋼小游隙關(guān)節(jié)軸承的研磨膏 | 解決了軸承安裝收口后軸承外國(guó)受收口力作用而產(chǎn)生變形，擠壓內(nèi)圈從而導(dǎo)致軸承安裝收口后出現(xiàn)卡滯抱死的問(wèn)題。 |
| 7 | 一種化學(xué)機(jī)械拋光劑及化學(xué)機(jī)械拋光工藝 | 無(wú)機(jī)納米顆粒的納米尺寸也抑制了化學(xué)機(jī)械拋光工藝中常見(jiàn)的劃傷缺陷，為半導(dǎo)體器件良率的穩(wěn)定性提供了足夠的保障。 |
| 8 | 一種多晶金剛石用拋光液及拋光方法， | 能夠?qū)崿F(xiàn)多晶金剛石表面的高效拋光，且獲得金剛石膜表面超光滑，結(jié)構(gòu)無(wú)損傷，表面粗糙度可低至１ｎｍ以下，能夠滿足制造超硬切削工具、半導(dǎo)體、紅外光學(xué)窗、高性能散熱器等領(lǐng)域的基本要求。 |
| 9 | 一種二氧化錳包覆金剛石復(fù)合磨粒及制備方法、拋光液及制備方法 | 新型拋光磨粒，相比于傳統(tǒng)金剛石磨粒，可以得到更高的材料去除卒，實(shí)現(xiàn)了最佳的拋光性能。 |
| 10 | 一種用于碳化硅襯底DMP的團(tuán)聚鉆石研磨液的制備方法 | 通過(guò)采用團(tuán)聚金剛石以及其他軟磨材料制成復(fù)合磨料，采用超聲水煮法對(duì)原料進(jìn)行改性，通過(guò)添加ＰＶＰ作為分散劑等，進(jìn)一步地提高研磨的效率和研磨后的產(chǎn)品質(zhì)量。 |
| 11 | 一種懸浮拋光液及其制備方法和碳化硅的拋光方法 | 提供的懸浮拋光液懸浮能力好、單位時(shí)間內(nèi)碳化硅移除率高和表面粗糙度低、不易堵塞拋光設(shè)備管路、不污染拋光墊、不影響碳化硅器件性能并且不易劃傷碳化硅。 |
| 12 | 一種用于增材制造的金屬粉末研磨液、研磨方法 | 提供的技術(shù)方案采用絡(luò)合劑和表面活性劑對(duì)金剛石顆粒進(jìn)行表面包覆，進(jìn)而配合懸浮劑使得磨料的懸浮性能更好，不容易沉底，提高了研磨的效率。 |
| 13 | 一種用于碳化硅襯底研磨用團(tuán)聚鉆石液的制備方法 | 該體系采用亞硝酸鹽、磷酸鹽、硅酸鹽做為分散劑及防銹劑，確保金剛石顆粒的分散性能，避免軟團(tuán)聚的形成；并采用了超尺寸顆粒分離技術(shù)，對(duì)超大顆粒金剛石進(jìn)行分離，避免劃傷不良；采用高速乳化分散頭對(duì)水基體系進(jìn)行攪拌分散，確保液體的均一性。 |
| 14 | 一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法 | 拋光液通過(guò)使用微溶于水的鐵鹽來(lái)實(shí)現(xiàn)鐵源的供給，能夠在雙氧水的存在下實(shí)現(xiàn)羥基自由基的穩(wěn)定供應(yīng)，從而有效去除金剛石表面的雜質(zhì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)金剛石表面的原子級(jí)粗糙度的控制。 |
| 15 | 一種金剛石用研磨液及金剛石襯底的研磨方法 | 研磨方法中采用含有雙氧水的研磨液與表面固定有金剛石微粉的研磨盤相互協(xié)同，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)金剛石襯底的均勻且高效研磨，顯著降低研磨后的金剛石襯底的粗糙度并提高成品率，提高了金剛石襯底的應(yīng)用前景。 |
| 16 | 再造金剛石研磨液和廢棄金剛石研磨液的回收再利用方法及應(yīng)用該方法的裝置 | 通過(guò)提高廢棄研磨液的質(zhì)量，實(shí)現(xiàn)研磨液的循環(huán)利用，從而降低了機(jī)械研磨工藝的成本，且循環(huán)利用的工藝簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)操作。 |
| 17 | 一種拋光效率高的鈦合金拋光液及其制備方法 | 提高昆拋光液的拋光效率，同時(shí)改性氧化鋯粉和改性金剛石粉均為可回收物質(zhì)，進(jìn)而便于降低其生產(chǎn)成空本。 |
| 18 | 一種抗腐蝕金剛石研磨液及其制備方法 | 研磨液具有抗腐蝕以及高分散性的性能，可以廣泛應(yīng)用于精密研磨拋光領(lǐng)域，具有較好的商業(yè)應(yīng)用價(jià)值。 |
| 19 | 一種金剛石研磨液及其制備方法 | 解決了市面上產(chǎn)品存在的金屬腐蝕及團(tuán)聚、分層等問(wèn)題，對(duì)環(huán)境無(wú)污染。 |
| 20 | 一種金剛石研磨液制備方法 | 金剛石研磨液組成配比科學(xué)，能夠提高熔石英研磨加工的效率，減少深劃傷，改善表面加工質(zhì)量，縮短加工周期。 |
| 21 | 一種氮化鎵晶圓的綠色拋光液 | 使拋光液在偏中性環(huán)境中仍有較好的氧化性，且拋光液穩(wěn)定性較好，綠色無(wú)污染，拋光效果好。 |
| 22 | 一種油基熱敏活性研磨液及微波輔助固結(jié)磨料研磨方法 | 低硬度的改性層破碎、層狀剝落，快速暴露的新生面被進(jìn)一步改性和去除，獲得高的加工效率。 |
| 23 | 一種銅觸指和光通訊基座銅鎢零件的表面拋光處理方法 | 操作簡(jiǎn)單，完全靠工藝保證，分為粗磨和精拋兩個(gè)工序，再添加研磨液和拋光液，達(dá)到觸指和光通訊基座銅鎢零件表面需要去毛刺和表面拋光效果。 |
| 24 | 一種堿性?耐熱?多尺寸磨粒磁流變拋光液及其制備方法 | 提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的拋光效率；并進(jìn)一步降低拋光粗糙度，有利于加工出高質(zhì)量表面。 |
| 25 | 一種反應(yīng)燒結(jié)碳化硅表面拋光的方法和裝置 | 能夠取得非常好的拋光效果，不司僅具有高光潔度、低表面粗糙度，還能夠提高碳化硅陶瓷制品表面的機(jī)械強(qiáng)度和耐磨性。 |
| 26 | 一種適用于塑膠型眼鏡材料的研磨膏 | 配方得到的研磨膏，不僅分散性更強(qiáng)，不易產(chǎn)生沉淀，而且去除率得到增強(qiáng)，拋光效果也更好。 |
| 27 | 一種摻雜金屬納米顆粒的單晶金剛石拋光液 | 分散二氧化硅微球以水楊酸鈉和十六烷基三甲基溴化銨為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑，以三乙醇胺為催化劑，將正硅酸乙酯水解后膠束自組裝，再經(jīng)煅燒得到。 |
| 28 | 一種具有光催化輔助功效的拋光液及其制備方法 | 從而顯著的彌補(bǔ)了機(jī)械作用產(chǎn)生的較大尖凸出現(xiàn)，造成粗糙度增加的現(xiàn)象的發(fā)生，有效降低了機(jī)械作用產(chǎn)生的多種缺陷，大幅度的提高了表面拋光質(zhì)量。 |
| 29 | 一種微納氣泡輔助光催化拋光單晶金剛石雙組分拋光劑及其制備方法 | 拋光劑成分簡(jiǎn)單、組分無(wú)毒、對(duì)環(huán)境友好。采用雙組分的形式，有效的避免了拋光劑可能失效的問(wèn)題，保留了拋光劑強(qiáng)氧化性能，使其在單晶金剛石拋光過(guò)程中更好的發(fā)揮作用。 |
| 30 | 一種拋光液及CH3NH3PbI3晶體拋光方法 | 晶體化學(xué)機(jī)械拋光處理過(guò)程高效、穩(wěn)定，并大幅提高了晶體化學(xué)機(jī)械拋光的質(zhì)量，獲得優(yōu)質(zhì)的拋光表面，提高晶體的物理、電學(xué)性能，實(shí)用性好。 |
| 31 | 一種拋光硅片的金剛石拋光液 | 各質(zhì)量比的混合后攪拌均勻，后超聲設(shè)備中震蕩１０?１５ｍｉｎ，長(zhǎng)時(shí)間存放基本不產(chǎn)生沉淀，拋光質(zhì)量穩(wěn)定，沒(méi)有對(duì)人體有害成分，有利環(huán)保。 |
| 32 | 一種研磨液、制備方法及用途 | 金剛石能夠穩(wěn)定、均勻分散。該方法制備的金剛石研磨液可以廣泛地應(yīng)用于精密研磨拋光領(lǐng)域。 |
| 33 | 一種用于鈀和銅化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及其制備方法和使用方法 | 針對(duì)厚度相同的鈀和銅共面材料，采用上述拋光液能夠?qū)崿F(xiàn)工件表面多余材質(zhì)的去除與全局納米級(jí)平坦化，避免金屬交聯(lián)因多層疊加效應(yīng)而喪失工件平坦度，便于后續(xù)光刻工藝的進(jìn)行。 |
| 34 | 一種可提升耐磨度的研磨體及其制備方法 | 有效提高了研磨休的內(nèi)部結(jié)合力，有利于延長(zhǎng)使用壽命，耐磨度得到了大幅的提升，滿足使用的需要。 |
| 35 | 一種用于鎳基單晶高溫合金各向異性等速去除的拋光液 | 通過(guò)調(diào)整氧化劑濃度和國(guó)值對(duì)鎮(zhèn)基單晶高溫合金不同晶面的各向異性進(jìn)行等速去除，并且使得鎮(zhèn)基單晶高溫合金獲得亞納米級(jí)表面粗糙度和趨近于零的亞表面損傷。 |
| 36 | 一種金剛石研磨液的制備方法 | 金剛石能夠穩(wěn)定、均勻分散。該方法制備的金剛石研磨液可以廣泛地應(yīng)用于精密研磨拋光領(lǐng)域。 |
| 37 | 一種光化學(xué)機(jī)械研磨方法及光敏活性研磨液 | 利用光敏研磨液對(duì)機(jī)械力作用的工司件進(jìn)行紫外光可控化學(xué)改性，減小甚至消除機(jī)械應(yīng)力去除造成的加工損傷，從而實(shí)現(xiàn)難加工材料提高質(zhì)量高效率超精密加工。 |
| 38 | 用于拋光例如具有大于約6的莫氏硬度的硬質(zhì)材料的硬質(zhì)材料的經(jīng)改進(jìn)漿液(美國(guó)) | 堿性漿液組合物能夠利用大于４０微米的金剛石顆粒大小同時(shí)實(shí)現(xiàn)良好移除速率。在此類情況下，當(dāng)與適合墊一起利用時(shí)，以均勻表面損害對(duì)碳化硅、氮化硅、藍(lán)寶石、氮化鎵及金剛石進(jìn)行快速且平坦研磨是可行的。 |
| 39 | 一種有機(jī)膜研磨組合物以及利用其的研磨方法（韓國(guó)） | 其特f正在于:包含將親水性基團(tuán)和疏水性基團(tuán)均包含在內(nèi)的研磨促進(jìn)劑，不僅是聚合物(Polymer) 、SOCSOH ，還對(duì)于通過(guò)共價(jià)鍵強(qiáng)鍵合的有機(jī)膜，如，無(wú)定形碳膜(ACL) 或類金剛石碳(Diamond-Like Carbon , DLC) ，也可以保持高研磨速度。 |
| 40 | 一種金剛石研磨膏及其制造方法 | 通過(guò)加入特定的雙親性有機(jī)物來(lái)改善金剛石研磨膏的清洗性能；通過(guò)添加增稠劑來(lái)調(diào)節(jié)研磨膏的稠度，進(jìn)而改善其使用性能及研磨性能。 |
| 41 | 一種穩(wěn)定全懸浮研磨用金剛石研磨液 | 應(yīng)用于研磨拋光液的批量化生產(chǎn)時(shí)，無(wú)沉降聚集造成灌裝不均的隱憂，可實(shí)現(xiàn)批量化穩(wěn)定生產(chǎn)。 |
| 42 | 一種高效低損傷金剛石研磨液 | 避免局部溫度過(guò)高造成幾何參數(shù)失控；同時(shí)其增稠減粘特性，在形成軟性緩沖層保障效率抑制劃傷的同時(shí)，也可實(shí)現(xiàn)研磨液的及時(shí)更新，穩(wěn)定研磨加工性能。 |
| 43 | 一種濃縮型水性研磨助劑 | 潤(rùn)滑劑在使用過(guò)程中可以有效降低研磨過(guò)程中的摩擦阻力，增加潤(rùn)滑性，有效改善研磨表面質(zhì)量，并大大縮短后道晶圓拋光時(shí)間。 |
| 44 | 一種超硬半導(dǎo)體襯底材料研磨拋光用鉆石粉體的制備方法 | 可以保證拋光液的質(zhì)量，進(jìn)而可以提高研磨拋光質(zhì)量，從而可以使研磨拋光后的超硬半導(dǎo)體襯底材料表面更加平整。 |
| 45 | 一種復(fù)合型拋光液及其制備方法 | 技術(shù)方案能夠有效提升碳化硅器件表面的機(jī)械去除速率，降低碳化硅器件表面粗糙度，并能夠降低劃傷風(fēng)險(xiǎn)以提升碳化硅器件表面拋光質(zhì)量。 |
| 46 | 一種油性金剛石拋光液、其制備方法及用途 | 油性金剛石拋光液安全、環(huán)保、高效，對(duì)藍(lán)寶石襯底無(wú)腐蝕。在相同磨料下，油性金剛石拋光液與水性拋光液相比較，具有較高的移除率以及較低的粗糙度。 |
| 47 | 一種制備金屬用的拋光膏及其制備方法 | 形成富恪表面層而增強(qiáng)耐蝕性;通過(guò)石灰、長(zhǎng)石粉或金剛石微粉的一種或混合作為主司要研磨料，可以更好的對(duì)金屬表面進(jìn)行研磨，去除毛刺和劃痕等，并通過(guò)光亮劑對(duì)羥基苯甲酸作為搭配，提高拋光的效率。 |
| 48 | 一種金剛石拋光液及其制備方法 | 解決了現(xiàn)有的拋光材料對(duì)鎳質(zhì)模仁表面進(jìn)行拋光的拋光效果較差的技術(shù)問(wèn)題。 |
| 49 | 一種混合磨料、包含其的光學(xué)石英玻璃拋光液、制備方法及用途。 | 對(duì)石英玻璃無(wú)腐蝕，同時(shí)具有較高的去除率以及低于１ｎｍ的粗糙度。 |
| 50 | 一種添加納米金屬的單晶金剛石高精度拋光劑 | 拋光劑可以催化單晶金剛石石墨化、促進(jìn)化學(xué)效應(yīng)、削弱機(jī)械作用帶來(lái)的金剛石表面解理剝落、減少大顆粒金剛石磨屑的形成，防止對(duì)拋光面造成二次損傷。 |
| 51 | 一種基于碳化硅陶瓷片拋光的雙cmp拋光液配方及拋光方法 | 在23 堿性cmp拋光液中的金剛石微粉和磨料的作用，可以大大提高碳化硅陶瓷板的打磨效率。 |
| 52 | 一種氧化鋯陶瓷手機(jī)背板減薄用金剛石研磨液的制備方法 | 金剛石研磨液在研磨拋光過(guò)程中，采用表面多刃化金剛石微粉，具有高效減薄，并能得到低的表面粗糙度。 |
| 53 | 一種用于超硬材料的固體金剛石研磨劑及制備方法 | 不僅增強(qiáng)了研磨效果，使用直接方便，同時(shí)解決了傳統(tǒng)研磨劑在使用時(shí)需要加稀釋劑再使用、不能水洗、難以清潔、存放時(shí)間短、性能不穩(wěn)定、使用時(shí)容易四處飛濺問(wèn)題。 |
| 54 | 一種用于單晶金剛石化學(xué)機(jī)械拋光加工的拋光液及其制備方法 | 提供的拋光液具有較大的氧化能力和去除率，實(shí)現(xiàn)了金剛石的高質(zhì)高效加工。 |
| 55 | 一種寶石閥座密封槽用研磨拋光膏及其制備方法 | 解決研磨拋光膏在寶石閥座密封槽加工過(guò)程中容易在密封槽表面形成絲劃，表面精度差，表面光潔度低，與工件的粘茹性差，從而導(dǎo)致寶石閥座密封性差，生產(chǎn)效率低，生產(chǎn)成本高的問(wèn)題。 |
| 56 | 一種可懸浮金剛石研磨液及其制備方法 | 解決了現(xiàn)有技術(shù)中金剛砂在溶劑中的分散效果差的問(wèn)題。廣泛應(yīng)用于微波陶瓷的研磨工藝中。 |
| 57 | 一種多晶硅環(huán)的化學(xué)機(jī)械拋光方法 | 保證拋光硅晶片高去除速率的同時(shí)，避免拋光霧等缺陷的形成，提高拋革光后表面質(zhì)量，拋光方法后硅環(huán)平面度<20μL破損層DOD=Oum ，經(jīng)檢測(cè)拋光合格。 |
| 58 |  一種碳化硅晶片加工用研磨液及其制備方法 | 研磨液中，金剛石微粉粒度更加集中，粗大顆粒數(shù)目遠(yuǎn)小于傳統(tǒng)方法制得的金剛石研磨液，從而有效避免大顆粒金剛石劃傷碳化硅晶片。 |
| 59 | 一種改性金剛石粉、制備方法、用途及包含其的拋光液 | 該拋光液具有安全、環(huán)保、高效、高懸浮性、高分散性的優(yōu)點(diǎn)，該拋光液可長(zhǎng)時(shí)間保持高分散狀態(tài)，幾乎無(wú)二次團(tuán)聚，極大的提升了拋光后藍(lán)寶石表面質(zhì)量。 |
| 60 | 一種球形磨料、制備方法、用途及包含其的藍(lán)寶石研磨液 | 采用藍(lán)寶石研磨液研磨得到的藍(lán)寶石襯底表面粗糙度低、平整度好、無(wú)明顯劃痕。藍(lán)寶石研磨液具有非常良好的應(yīng)用前景和大規(guī)模工業(yè)化推廣潛力。 |
| 61 | 一種綠色可見(jiàn)光催化輔助金剛石化學(xué)機(jī)械拋光液 | 去離子水的重量百分比為６７％～８１％。拋光后，表面粗糙度為０．１１１ｎｍ，材料去除率為４１６ｎｍ／ｈ。實(shí)現(xiàn)了綠色、高效、高質(zhì)量化學(xué)機(jī)械拋光金剛石。 |
| 62 | 一種碳化硅晶片電化學(xué)機(jī)械拋光方法 | 明能夠顯著提高碳58 化硅晶片的拋光速率，在精拋階段也能保證好的言表面質(zhì)量。 |
| 63 | 一種用于光纖接頭端面的拋光液組合物 | 采用提供的光纖接頭拋光液組合物對(duì)光纖接頭端面進(jìn)行拋光，可有效降低光纖接頭端面的表面粗糙度，并具有低的纖芯下陷，提高了光纖接頭加工的成品良率。 |
| 64 | 一種自修整熱固化型固結(jié)研磨料及其制備方法， | 改性石墨配合聚氨酯改性環(huán)氧樹(shù)脂，使聚氨酯改性環(huán)氧樹(shù)脂的表面和內(nèi)部形成一定密度的磨粒層，提高拋光的均勻性和拋光效率，且實(shí)現(xiàn)拋光墊的自修整功能，從而獲得穩(wěn)定的拋光能力。 |
| 65 | 一種拋光磨料的生產(chǎn)制備工藝 | 使被拋光物體的表面更細(xì)膩，光度更均勻，避免被拋光的物體表面留下打磨的螺旋紋，同時(shí)避免了傳統(tǒng)拋光磨料在制備時(shí)需要對(duì)羊毛進(jìn)行繁瑣的處理過(guò)程，提高了生產(chǎn)效率。 |