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《3D打印-尼龍粉 制造工藝配方精選》
尼龍粉是一種常用于3D打印的熱塑性材料，具有高強度、耐磨性、耐化學腐蝕性以及良好的機械性能。它廣泛應用于選擇性激光燒結（SLS）、多噴射熔融（MJF）等3D打印工藝。
3D打印尼龍粉的常見類型
尼龍11（PA11）：具有良好的抗紫外線和抗沖擊性能，適合戶外使用。
尼龍12（PA12）：強度和剛度更高，是SLS打印中最常用的材料之一。
復合尼龍材料：如玻璃纖維增強尼龍（如Nylon 12 GF Powder）和碳纖維增強尼龍（如Nylon 11 CF Powder），這些材料在強度和剛性上表現更優。
3D打印尼龍粉的應用領域
工業制造：用于制造機械零件、齒輪、軸承等，具有良好的耐磨性和機械強度。
汽車與航空航天：用于制造功能測試部件、發動機進氣歧管、輕量化結構件等。
醫療領域：可用于制造生物相容性好的醫療器械。
消費品：如運動器材、鞋底模具等。
3D打印尼龍粉的優勢
高精度與復雜結構：SLS和MJF工藝可以實現復雜幾何形狀的打印，無需支撐結構。
材料可重復使用：未燒結的尼龍粉末可以回收再利用，減少浪費。
良好的表面處理：尼龍粉末打印的部件表面可以進行噴砂、噴漆等后處理。
3D打印尼龍粉的局限性
吸濕性：尼龍材料容易吸收空氣中的水分，可能導致打印件變形或性能下降。
表面粗糙度：MJF打印的部件表面相對粗糙，需要額外的后處理。
材料選擇有限：與FDM等其他3D打印技術相比，SLS和MJF的材料種類相對較少。
總結
3D打印尼龍粉因其優異的機械性能和廣泛的適用性，在工業制造、汽車、航空航天等領域具有重要的應用價值。然而，其吸濕性和表面粗糙度等局限性也需要在實際應用中加以注意。
日本企業占據了全球光刻膠市場約70%到90%的份額，尤其在高端的ArF和EUV光刻膠領域，市場份額甚至超過90%。這些高端光刻膠是半導體制造中不可或缺的關鍵材料，直接影響芯片的性能和制造精度。
本篇資料收錄了日本著名公司光刻膠制造專利技術，涉及：工藝、配方、制備方法等，是我國從事光刻膠行業研究生產單位的重要參考資料。
【資料內容】生產工藝、配方
【出品單位】國際新技術資料網
【資料語種】日文
【電 子 版】1680元（PDF文檔 郵箱發送）
【聯系電話】13141225688 梅蘭（女士）
目錄
| 1 | 半導體フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 2 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物 | 日油株式會社 |
| 3 | 金屬含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 4 | 金屬含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金屬含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 5 | フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 6 | 半導體フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 7 | 金屬含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 8 | 有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
| 9 | 金屬含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 10 | 重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
| 11 | 有機金屬化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
| 12 | スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
| 13 | 金屬含有膜形成用化合物、金屬含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導體フォトレジスト材料 | 信越化學工業株式會社 |
| 14 | 電著フォトレジスト用塗料組成物 | 株式會社シミズ |
| 15 | カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
| 16 | フォトレジスト剝離液 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 17 | 金屬含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 18 | フォトレジスト用剝離液及びこれを用いた基板の処理方法 | 東京応化工業株式會社 |
| 19 | フォトレジスト剝離組成物 | 関東化學株式會社 |
| 20 | 電著フォトレジスト塗膜の剝離方法 | ハニー化成株式會社 |
| 21 | 改良されたフォトレジスト製剤 | 船井電機株式會社 |
| 22 | 光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
| 23 | パターン化された有機金屬フォトレジスト及びパターニングの方法 | インプリア?コーポレイション |
| 24 | 化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法 | サンアプロ株式會社 |
| 25 | ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
| 26 | 複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流體吐出ヘッド | 船井電機株式會社 |
| 27 | ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物 | サンアプロ株式會社 |
| 28 | ノズルプレートの接著性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像 | 船井電機株式會社 |
| 29 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー |
| 30 | 半導體フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 31 | 半導體フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
| 32 | フォトレジスト樹脂の製造方法 | 株式會社ダイセル |
| 33 | フォトレジスト組成物、液體吐出ヘッド及び液體吐出ヘッドの製造方法 | キヤノン株式會社 |
| 34 | フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式會社 |
| 35 | フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物 | 住友ベークライト株式會社 |
| 36 | フォトレジストの特性解析方法および特性解析裝置 | フェムトディプロイメンツ株式會社 |
| 37 | フォトレジスト組成物およびその硬化物 | 太陽インキ製造株式會社 |
| 38 | ネガ型カチオン性電著フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電著塗裝してなる塗膜 | ハニー化成株式會社 |
| 39 | フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
| 40 | 厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式會社 |
| 41 | 単量體、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
| 42 | フォトレジスト除去用組成物 | 三菱ガス化學トレーディング株式會社 |
| 43 | フォトレジスト用組成物 | 株式會社ダイセル |
| 44 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
| 45 | 感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法 | ニッコー?マテリアルズ株式會社 |
| 46 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
| 47 | 重合性化合物、重合性組成物、重合體及びフォトレジスト用組成物 | ＪＮＣ株式會社 |
| 48 | フォトレジスト用保護フィルム | 三菱ケミカル株式會社 |
| 49 | フォトレジスト及びフォトリソグラフィ | 日本化成株式會社 |
| 50 | フォトレジスト塗布裝置 | トヨタ自動車株式會社 |
| 51 | 化學増幅型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式會社 |
| 52 | 化學増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式會社 |
| 53 | ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜 | サンアプロ株式會社 |
| 54 | 光発生裝置、光発生裝置を備える露光裝置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法 | 公立大學法人兵庫県立大學 |
| 55 | 誘導自己組織化用の化學テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのＵＶ支援剝離 | 東京エレクトロン株式會社 |
| 56 | ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法 | トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス，インコーポレーテッド |
| 57 | 機能構造體製造方法及びフォトレジスト処理裝置 | ウシオ電機株式會社 |
| 58 | ポジ型フォトレジスト | 住友精化株式會社 |
| 59 | コーティング用組成物およびフォトレジスト積層體の製造方法 | 旭硝子株式會社 |
| 60 | フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
| 61 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
| 62 | フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導體パターンの形成方法 | ニッコー?マテリアルズ株式會社 |
| 63 | ドライフィルムフォトレジスト支持體二軸配向ポリエステルフィルム | 東レ株式會社 |
| 64 | アルコール誘導體、アクリル酸エステル誘導體、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物 | 株式會社クラレ |
| 65 | コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層體の製造方法 | ＡＧＣ株式會社 |
| 66 | フォトレジスト成分濃度測定裝置および濃度測定方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 67 | ポジ型フォトレジスト組成物 | 東京応化工業株式會社 |
| 68 | フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層體 | 旭化成イーマテリアルズ株式會社 |
| 69 | 半導體基板処理裝置、フォトレジストを剝離する方法、および半導體裝置の製造方法 | セイコーインスツル株式會社 |
| 70 | フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物 | ダイセル?オルネクス株式會社 |