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《3D打印-尼龍粉 制造工藝配方精選》
尼龍粉是一種常用于3D打印的熱塑性材料，具有高強(qiáng)度、耐磨性、耐化學(xué)腐蝕性以及良好的機(jī)械性能。它廣泛應(yīng)用于選擇性激光燒結(jié)（SLS）、多噴射熔融（MJF）等3D打印工藝。
3D打印尼龍粉的常見類型
尼龍11（PA11）：具有良好的抗紫外線和抗沖擊性能，適合戶外使用。
尼龍12（PA12）：強(qiáng)度和剛度更高，是SLS打印中最常用的材料之一。
復(fù)合尼龍材料：如玻璃纖維增強(qiáng)尼龍（如Nylon 12 GF Powder）和碳纖維增強(qiáng)尼龍（如Nylon 11 CF Powder），這些材料在強(qiáng)度和剛性上表現(xiàn)更優(yōu)。
3D打印尼龍粉的應(yīng)用領(lǐng)域
工業(yè)制造：用于制造機(jī)械零件、齒輪、軸承等，具有良好的耐磨性和機(jī)械強(qiáng)度。
汽車與航空航天：用于制造功能測試部件、發(fā)動機(jī)進(jìn)氣歧管、輕量化結(jié)構(gòu)件等。
醫(yī)療領(lǐng)域：可用于制造生物相容性好的醫(yī)療器械。
消費(fèi)品：如運(yùn)動器材、鞋底模具等。
3D打印尼龍粉的優(yōu)勢
高精度與復(fù)雜結(jié)構(gòu)：SLS和MJF工藝可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜幾何形狀的打印，無需支撐結(jié)構(gòu)。
材料可重復(fù)使用：未燒結(jié)的尼龍粉末可以回收再利用，減少浪費(fèi)。
良好的表面處理：尼龍粉末打印的部件表面可以進(jìn)行噴砂、噴漆等后處理。
3D打印尼龍粉的局限性
吸濕性：尼龍材料容易吸收空氣中的水分，可能導(dǎo)致打印件變形或性能下降。
表面粗糙度：MJF打印的部件表面相對粗糙，需要額外的后處理。
材料選擇有限：與FDM等其他3D打印技術(shù)相比，SLS和MJF的材料種類相對較少。
總結(jié)
3D打印尼龍粉因其優(yōu)異的機(jī)械性能和廣泛的適用性，在工業(yè)制造、汽車、航空航天等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。然而，其吸濕性和表面粗糙度等局限性也需要在實(shí)際應(yīng)用中加以注意。
日本在全球光刻膠及剝離液市場中占據(jù)主導(dǎo)地位，尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而，中國通過政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同，正在加速實(shí)現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應(yīng)風(fēng)險(xiǎn)和技術(shù)挑戰(zhàn)，但長期來看，國產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。
本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料，資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測試及標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)際應(yīng)用效果，技術(shù)指標(biāo)，解決的具體問題等等，是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實(shí)用、超值和難得的技術(shù)資料。
【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語種】英文 中文
【項(xiàng)目數(shù)量】54項(xiàng)
【電子版】1980元（PDF文檔 郵件發(fā)送）
目錄
| 1 | 硬化物層を基板から剝離する剝離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剝離液 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 2 | 樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會社 |
| 3 | レジスト剝離液 | 太陽インキ製造株式會社 |
| 4 | フォトレジスト剝離液 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 5 | フォトレジスト剝離組成物 | 関東化學(xué)株式會社 |
| 6 | レジスト剝離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 東友ファインケム株式會社 |
| 7 | 回路基板用樹脂膜剝離剤 | 日油株式會社 |
| 8 | レジストの剝離液 | 株式會社ＪＣＵ |
| 9 | レジスト用剝離組成物 | 三洋化成工業(yè)株式會社 |
| 10 | レジスト剝離液組成物 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 11 | レジスト剝離液及びレジストの剝離方法 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 12 | ネガ型樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會社 |
| 13 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 14 | 剝離液、これを用いた剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 15 | レジスト剝離液とその製造方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 16 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 17 | レジスト剝離剤及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 東ソー株式會社 |
| 18 | フォトリソグラフィ用剝離液及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 19 | レジスト剝離液の組成比維持裝置およびレジスト剝離液の組成比維持方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 20 | 変性レジストの剝離液、これを用いた変性レジストの剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 21 | パターン剝離方法、電子デバイスの製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 22 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 旭化成イーマテリアルズ株式會社 |
| 23 | レジスト剝離液 | パナソニック株式會社 |
| 24 | レジスト剝離剤組成物 | ライオン株式會社 |
| 25 | レジスト除去液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 26 | フォトレジスト剝離液組成物 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 27 | フォトリソグラフィ用剝離液、及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 28 | レジスト剝離剤及びそれを用いた剝離方法 | 東ソー株式會社 |
| 29 | レジスト剝離剤 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 30 | レジスト剝離液の劣化抑制方法、レジスト剝離方法及びシステム | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
| 31 | レジスト剝離液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 32 | 剝離剤組成物 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 33 | 剝離液リサイクルシステムと運(yùn)転方法および剝離液のリサイクル方法 | パナソニック株式會社 |
| 34 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニック株式會社 |
| 35 | フォトレジスト剝離剤組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
| 36 | レジスト剝離剤組成物及び當(dāng)該組成物を用いたレジストの剝離方法 | 和光純薬工業(yè)株式會社 |
| 37 | レジスト剝離液組成物及びこれを用いたレジストの剝離方法 | 東友ファインケム株式會社 |
| 38 | フォトレジスト剝離剤組成物及びフォトレジスト剝離方法 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 39 | レジスト剝離剤組成物及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 出光興産株式會社 |
| 40 | 防食性フォトレジスト剝離剤組成物 | 出光興産株式會社 |
| 41 | フェニルジケトン誘導(dǎo)體を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 42 | インドール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 43 | レジスト剝離液 | 東ソー株式會社 |
| 44 | レジスト剝離液 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 45 | ビアリール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 46 | レジスト剝離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剝離剤 | 出光興産株式會社 |
| 47 | 剝離用組成物および剝離方法 | 旭硝子株式會社 |
| 48 | 半導(dǎo)體デバイスの剝離液、及び、剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 49 | レジスト用剝離剤組成物及び半導(dǎo)體裝置の製造方法 | ソニー株式會社 |
| 50 | レジスト剝離剤組成物 | 東亞合成株式會社 |
| 51 | フォトレジスト剝離剤組成物 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 52 | レジスト剝離剤及びその製造方法 | 出光興産株式會社 |
| 53 | 粒子を含有するレジスト剝離液及びそれを用いた剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 54 | フォトレジスト剝離液組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |